High-resolution X-ray diffraction and electron microscopy study of porous GaAs substrates.

Autoři publikace: 
Lomov, A. A.
Grym, J.
Nohavica, D.
Orehov, A.S.
Vasil'ev, A. L.
Novikov, D. V.
Rok: 
2013
DOI: 
10.1117/12.2019787
Bibliografický formát: 

Lomov, A. A. ; Grym, Jan ; Nohavica, Dušan ; Orehov, A.S. ; Vasil'ev, A. L. ; Novikov, D. V. High-resolution X-ray diffraction and electron microscopy study of porous GaAs substrates. In Orlikovsky, A.A. (ed.). International Conference Micro- and Nano-Electronics 2012 (Proc. SPIE 8700). BELLINGHAM : SPIE (2013)

Tým: 
Příprava a charakterizace nanomateriálů

ÚFE provádí základní a aplikovaný výzkum v oblasti fotoniky, optoelektroniky a elektroniky. ÚFE příspívá k rozvoji poznání v těchto oblastech a vytváří širokou bázi znalostí, jako základ pro vývoj nových špičkových technologií.

Kontakt

+420 266 773 400
ufe@ufe.cz
Datová schránka: m54nucy
IČ: 67985882
DIČ: CZ67985882