Sputtering of a silicon surface: Preferential sputtering of surface impurities.

Autoři publikace: 
Nietiadi, M.L.
Rosandi, Y.
Lorinčík, J.
Urbassek, H.M.
Rok: 
2013
DOI: 
10.1016/j.nimb.2012.09.023
Bibliografický formát: 

Nietiadi, M.L. ; Rosandi, Y. ; Lorinčík, Jan ; Urbassek, H.M. Sputtering of a silicon surface: Preferential sputtering of surface impurities. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B (2013)

Tým: 
Příprava a charakterizace nanomateriálů
ASEP

ÚFE provádí základní a aplikovaný výzkum v oblasti fotoniky, optoelektroniky a elektroniky. ÚFE příspívá k rozvoji poznání v těchto oblastech a vytváří širokou bázi znalostí, jako základ pro vývoj nových špičkových technologií.

Kontakt

+420 266 773 400
ufe@ufe.cz
Datová schránka: m54nucy
IČ: 67985882
DIČ: CZ67985882